게시: 2026.10.15 19:39 · 수정: 2026.10.16 14:59
매체: 한국경제
원문 제목: 中업체, ASML에 도전장…노광장비 핵심부품 공개
작성: 김채연 기자
원문: 한국경제 기사 보기
핵심 요약
중국 랑다오쑤이옌(朗道燧岩)이 공개한 것은 EUV 빛을 만드는 광원 시제품입니다. 반도체 회로를 웨이퍼에 새기는 완성 노광장비를 공개한 단계와 구분해야 합니다.
기사는 업체가 광원 시스템의 국산화율 90%를 제시했다고 전했습니다. 양산까지 3~5년이 더 필요하다는 예상도 소개했지만, 이 기간은 확정된 상용화 일정이 아닙니다.
제조사와 ASML의 공식 자료를 함께 보면, 광원 개발의 진전은 확인할 수 있으나 출력·안정성·광학계·장비 통합·고객 생산라인 검증이 남아 있습니다. 현재 자료만으로 ASML을 대체할 시점을 산정하기는 어렵습니다.
화웨이가 관여한 중국의 EUV 장비 시제품 개발은 로이터가 보도한 사안입니다. 해당 보도 당시에는 정상 작동하는 칩을 생산하지 못했다고 설명했습니다.
1. 기사에서 확인할 핵심
랑다오쑤이옌은 상하이에서 열린 제26회 중국국제공업박람회에서 EUV 광원 시스템 시제품을 선보였습니다. 업체는 핵심 부품의 자체 개발과 웨이퍼 노광 시험 가능성을 강조했습니다. 기사는 고출력 확보와 장시간 안정 운전을 양산 전환의 과제로 제시했습니다.
여기서 국산화율은 광원 시스템에 관한 업체 주장입니다. 완성 EUV 노광장비 전체의 국산화율이나 ASML 대비 성능 달성률을 나타내는 수치로 해석할 수 없습니다. 기사에는 국산화율을 부품 수와 금액 중 어느 기준으로 계산했는지 제시되어 있지 않습니다.
2. 제조사 공식 자료로 보강한 사양
랑다오 공식 제품 페이지는 고출력 FlintMicro-LPP 계열과 저출력 FlintNano-LPP 계열의 개발 단계를 구분합니다. 고출력 계열은 원리 검증을 마쳤다고 설명하고, 저출력 계열은 제품화 단계라고 소개합니다.
항목 | 업체 공개 내용 | 읽을 때의 기준 |
|---|
고출력 계열 | FlintMicro-LPP: 원리 검증 완료 | 고출력 양산 장비의 고객 인증 완료를 발표한 내용과 구분합니다. |
저출력 제품 | FlintNano LPP-OXXO | 아래 출력·운전 수치는 이 저출력 제품의 사양입니다. |
구동 레이저 출력 | 1,000 W | 주석에 에너지를 공급하는 레이저의 출력입니다. |
EUV 출력 | 15 W 초과 | 발생한 EUV 빛의 출력입니다. 구동 레이저 출력과 다른 항목입니다. |
연속 운전시간 | 100시간 초과 | 제품 페이지의 업체 공개값입니다. 고객 공장 가동률·정비주기 자료는 별도로 필요합니다. |
출력 안정성 | 5% | 제조사가 공개한 사양입니다. 측정 조건과 양산 노광 요구조건을 함께 확인해야 합니다. |
따라서 ‘레이저 1,000 W’를 ‘EUV 광원 1,000 W’로 읽으면 성능을 크게 잘못 판단하게 됩니다. 두 출력은 빛의 종류와 측정 대상이 다릅니다. 공개값만으로 전환효율을 다시 계산하지 않았습니다.
전시 시제품과 FlintNano LPP-OXXO가 같은 모델인지는 확인되지 않았습니다. 표의 수치는 별도 제품의 업체 공개 사양으로 정리했으며, 전시 시제품의 실측 성능으로 대입하지 않았습니다. 랑다오 공식 제품 정보
3. 화웨이의 EUV 시제품 개발 보도는 무엇을 의미하나
로이터는 2025년 12월 17일, 중국 선전에서 EUV 장비 시제품을 제작해 시험하고 있다고 보도했습니다. 익명 관계자들에 따르면 시제품은 2025년 초 제작됐으며, 보도 당시 EUV 빛을 발생시켰지만 정상 작동하는 반도체 칩은 생산하지 못한 상태였습니다. 화웨이는 여러 기업과 국책 연구기관의 개발 활동을 조율하는 역할로 설명됐습니다. 화웨이는 로이터의 논평 요청에 응답하지 않았다고 기사에 명시되어 있습니다. 로이터 보도 전문·재게재
따라서 ‘초기 제품’이 시제품을 가리킨다면 해당 설명은 로이터 보도와 부합합니다. 다만 확인한 근거는 익명 취재원을 바탕으로 한 시제품 개발 보도입니다. 화웨이가 단독 개발한 상용 제품의 공식 발표나 양산 성능 인증으로 분류하지 않았습니다. EUV 빛 발생 → 정상 작동하는 칩 제작 → 수율·생산성을 갖춘 양산은 각각 구분해서 평가해야 합니다.
화웨이의 관련 연구는 특허 문서에서도 확인할 수 있습니다. 2022년 11월 15일 공개된 CN115343915A는 반사경, 노광장치 및 제어 방법에 관한 특허 출원 문서로, EUV 빛을 균일하게 비추기 위한 반사경 구조 등을 제안합니다. 이 문서는 관련 기술 연구의 근거로 사용했으며, 실물 장비의 제작·성능을 검증한 자료로 사용하지 않았습니다. 화웨이 특허 출원 문서
앞선 한국경제 기사는 랑다오의 광원 시제품 공개, 로이터 기사는 화웨이가 관여한 EUV 장비 시제품 개발을 다룹니다. 랑다오의 광원과 선전 시제품이 같은 장비이거나 같은 프로젝트에 속한다는 근거는 이번 자료에서 확인하지 못했으므로, 주체와 개발 대상을 구분해 정리했습니다.
4. 광원 개발이 곧 완성 노광장비 개발은 아닌 이유
EUV 노광의 기본 흐름은 레이저 → 주석 플라스마 → 파장 13.5 nm의 EUV 빛 → 반사광학계·마스크 → 웨이퍼에 회로 패턴 전사입니다. 레이저는 주석을 플라스마로 만드는 에너지원이고, 실제 노광에 사용하는 EUV 빛은 그 과정에서 발생합니다. ASML의 광원 원리 설명
EUV는 공기에도 쉽게 흡수되므로 빛이 이동하는 경로를 진공으로 유지해야 합니다. 렌즈 대신 정밀한 다층 반사경을 사용하며, 마스크·웨이퍼 이동·측정·제어 기능까지 하나의 장비로 맞물려야 합니다. 광원은 이 시스템의 출발점입니다. ASML EUV 시스템 설명
검증 대상 | 공개되어야 할 내용 | 양산에서 중요한 이유 |
|---|
실제 노광에 쓰이는 빛 | 출력의 측정 위치·파장 범위·수집 조건 | 발생한 빛과 웨이퍼 노광에 활용하는 빛의 양을 구분하기 위해서입니다. |
지속 운전·정비 | 장기 출력 안정성, 부품 수명, 정비주기·가동률 | 출력이 높아도 정지가 잦으면 생산량과 경제성이 떨어집니다. |
정밀도·결함 | 패턴 균일도, 층간 정렬 오차, 결함 수준 | 빛을 만드는 데서 나아가 회로를 반복해서 정확하게 새겨야 합니다. |
생산성과 고객 검증 | 노광 조건을 명시한 시간당 처리량, 고객 라인 평가 | 시제품의 작동과 반도체 공장의 반복 생산 능력을 구분하는 기준입니다. |
이 표는 EUV 시스템의 구조를 바탕으로 정리한 확인 항목입니다. 랑다오가 이 항목들을 통과했다고 발표한 것으로 해석하지 않았습니다.
특히 고출력 플라스마 주변에서는 잔해와 오염이 반사경 수명에 영향을 줍니다. ASML도 광원 출력 확대 과정에서 반사경의 열화 문제를 해결한 경험을 설명합니다. 출력 상승과 부품 수명·정비 부담을 함께 봐야 하는 이유입니다. ASML의 광원·소재 개발 사례
5. ASML의 개발 이력에서 볼 수 있는 차이
ASML의 2025년 연차보고서는 ‘빛을 만들 수 있는 단계’와 ‘공장에서 생산할 수 있는 단계’의 차이를 다음과 같이 보여줍니다.
시점 | 공개한 이정표 | 자료가 설명하는 의미 |
|---|
2010년 | 광원 1 W | 시험용 웨이퍼 연구에는 사용할 수 있었지만 대량 생산에는 출력이 부족했습니다. |
2018년 | 광원 250 W | 당시 시스템에서 시간당 125장 처리를 뒷받침한 수준으로 소개했습니다. |
2022년 | 광원 500 W 시제품 | 출력 확대의 개발 이정표입니다. |
2025년 4월 | 광원 1,000 W 시연 | 연차보고서 당시에는 상용 광원으로 전환하기까지 시간이 더 필요하다고 설명했습니다. |
이 수치는 서로 다른 연도의 개발·생산 이력이며, 2026년 10월 현재 판매 장비의 최대 성능을 비교한 표가 아닙니다. 또한 랑다오와 ASML 수치의 측정 조건이 일치하는지 확인되지 않았으므로, 단순히 출력을 나눠 ‘성능 격차가 몇 배’라고 계산하지 않았습니다. ASML 2025 연차보고서
6. 추가 해석: 발표보다 후속 검증의 수준이 중요합니다
기술 자립의 진전은 의미가 있습니다. 광원 자체 개발은 중국 반도체 장비 공급망이 외부 공급 제약을 줄이는 방향으로 움직이고 있음을 보여주는 사례입니다. 다만 저출력 제품화와 고출력 원리 검증을 완성 EUV 장비의 양산 성공으로 확대해석하기에는 확인된 범위가 좁습니다.
‘3~5년’보다 다음에 무엇을 공개하는지가 중요합니다. 동일한 조건에서 측정한 EUV 출력, 장기 운전 중 성능 변화, 통합 장비의 처리량·정밀도, 고객 생산라인 평가가 순차적으로 공개되는지 살펴볼 필요가 있습니다.
EUV 확보 여부만으로 선단 공정의 가능·불가능을 나누는 해석도 피해야 합니다. DUV를 여러 번 사용하는 다중 패터닝으로 일부 미세 패턴을 구현하는 경로가 있습니다. 다만 공정 단계와 정렬 부담이 늘어나므로, 투자·생산비와 수율을 함께 평가해야 합니다. ASML 연차보고서도 EUV 도입이 일부 복잡한 다중 패터닝 공정을 줄이는 효과를 설명합니다.
종합하면 이번 발표는 중국의 EUV 광원 개발 과정을 추적할 만한 사건입니다. ASML의 경쟁 구도가 이미 바뀌었다는 결론보다, 광원 개발 성과가 통합 장비와 고객 생산라인 검증으로 이어지는지를 확인하는 접근이 적절합니다. 이 의견은 위 공식 자료를 바탕으로 한 기술·산업 해석이며, 개별 종목의 매수 적정성은 검토하지 않았습니다.
경제 용어 및 개념
EUV: 극자외선입니다. ASML의 EUV 노광은 파장 13.5 nm의 빛을 사용합니다. 이 파장과 ‘7 nm·3 nm’ 같은 공정 세대 명칭은 서로 다른 개념입니다.
LPP: Laser-Produced Plasma의 약자입니다. 레이저로 물질을 플라스마 상태로 만들어 빛을 얻는 방식입니다. 같은 LPP 계열이라도 구현 방식과 성능은 다를 수 있습니다.
노광: 빛을 이용해 마스크의 회로 패턴을 웨이퍼 위 감광막에 옮기는 과정입니다. 광원은 빛을 만들고, 노광장비는 그 빛으로 패턴을 정확하게 전사합니다.
양산 검증: 정해진 생산 조건에서 품질·처리량·가동률·비용을 반복적으로 충족하는지 확인하는 단계입니다. 원리 검증이나 제품화와 구분했습니다.
자료·확인 범위
2026년 10월 16일에 한국경제 기사, 본문에 연결한 제조사·ASML 공식 자료, 화웨이 관련 특허 문서 및 로이터 보도 전문을 확인했습니다. 기사상의 국산화율과 일정은 기사에서 소개한 주장·예상으로, 제조사 사양은 업체 공개값으로, 선전 시제품은 로이터의 익명 취재원 기반 보도로, 추가 해석은 작성 의견으로 구분했습니다. 로이터가 설명한 시제품 상태는 2025년 12월 보도 시점 기준이며, 이를 2026년 10월 현재 상태로 대입하지 않았습니다. 독립 시험 결과와 고객 생산라인 인증 자료는 이번에 확인한 자료에 포함되어 있지 않습니다.
